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LPCVD低壓化學(xué)氣相淀積設(shè)備 湯鍋爐 詳細(xì)摘要: LPCVD低壓化學(xué)氣相淀積設(shè)備式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低粤策,氣體分子的平均自由程和擴(kuò)散系數(shù)大,故可采用密集裝片...
產(chǎn)品型號: 所在地:青島市 更新時間:2023-04-19 參考價: 面議 在線留言
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詳細(xì)摘要: LPCVD低壓化學(xué)氣相淀積設(shè)備式在低壓條件下使氣態(tài)化合物在基片表面反應(yīng)并淀積形成穩(wěn)定固體薄膜。由于工作壓力低粤策,氣體分子的平均自由程和擴(kuò)散系數(shù)大,故可采用密集裝片...
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